伺服勻膠機(jī)一個(gè)典型的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個(gè)步驟。
 

　　滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成薄層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。
 

　　靜態(tài)滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。
 

　　伺服勻膠機(jī)動態(tài)滴膠方式是在基片低速旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行滴膠，“動態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開，減少光刻膠的浪費(fèi)，采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個(gè)基片表面。尤其是當(dāng)光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下，動態(tài)滴膠尤其適用，不會產(chǎn)生針孔。滴膠之后，下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚，轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度，溶劑揮發(fā)速度，固體含量以及表面張力等)以及基片的大小?？焖傩D(zhuǎn)的時(shí)間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時(shí)間往往能決定最終膠膜的厚度。
 

　　一般來說，伺服勻膠機(jī)勻膠轉(zhuǎn)速快，時(shí)間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時(shí)往往相互抵消并趨于平衡。所以最好給予勻膠過程以足夠的時(shí)間，讓諸多影響因素達(dá)到平衡。勻膠工藝中最重要的一個(gè)因素就是可重復(fù)性。